設備特征:
1.自主研發檢測(ce)算法。
2.自主(zhu)研發(fa)成像機構。
3.可檢(jian)測粒子壓(ya)痕的(de)大小數量、異物、劃傷(shang)、腐(fu)蝕(shi)、IC崩等缺陷(xian)。
4. LCD尺寸:7-17寸
設備詳情: